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                  合肥真萍電子科技有限公司
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                  詳情介紹  
                  石墨盤專用真空烤盤爐

                   一.產品介紹

                  真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體,爐內抽真空,被處理工件放置在爐膛內,采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤或石英盤)上的氮化鎵和氮化鋁等,可達到有效清潔處理,提高制品質量的目的。

                  二、設計特點

                  1、后門設計熱風電機

                  2、降溫時風機開啟,同時兩端降溫封頭開啟,爐膛內產生如圖所示的氣體流向

                  3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進行熱交換,達到快速降溫的目的

                  三、技術指標

                  使用溫度

                  1450℃

                  最高溫度

                  1500℃

                  絕熱材料

                  石墨纖維毯、石墨紙

                  馬弗材料

                  SUS304

                  加熱元件

                  石墨加熱棒

                  冷卻方式

                  氣冷+循環風冷降溫

                  控溫穩定度

                  ±2℃,具有PID參數自整定功能

                  爐膛溫度均勻度

                  ±5℃(恒溫1550℃)

                  控溫熱偶

                  Wre5

                  升溫速率

                  15℃/min(空載)

                  控溫點數

                  1點

                  降溫速率

                  1450℃至80℃,240分鐘

                  監測點數

                  1點

                  極限真空

                  10-3torr級

                  氣氛

                  可向爐膛內通入干燥、潔凈、無油的高純度氮氣,純度≧99.999%

                  抽氣速率

                  空載下,30min達到10-2torr

                  報警保護

                  超溫、斷偶、停氣等聲光報警保護

                  設備顏色

                  電腦駝灰色

                  電源

                  容量大于160KVA,3相5線,220/380VAC,50Hz

                  參考型號

                  MOLKP-518W710×H710×D1000mm)

                  MOLKP-1000(W1000×H1000×D1000mm)

                  MOLKP-1200(W1000×H1000×D1200mm)

                   


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