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                  合肥真萍電子科技有限公司
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                  HMDS預處理系統——高溫鐘罩爐

                   一、HMDS 預處理系統的必要性:在半導體生產工藝中,光刻是至關重要的一個工藝環節,而涂膠工藝的好壞,直接影響到光刻的質量。涂膠工藝中的一種叫Hexamethyldisilazane(HMDS)化學制劑,化學名稱叫六甲基二硅氮 甲烷,即HMDS。把它涂到硅片表面后,通過加溫可反應生成以硅氧烷為主題的起表面活性劑作用的化合物,它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起到耦合的作用。在顯影的過程中,增強了光刻膠與基底的粘附力,從而有效地抑制刻蝕液進入掩模與基底的側向刻蝕。但隨著光刻線條的越來越細,膠的越來越薄,對粘附力提出了更高的要求,于是我們研制出了現在的HMDS專用烘箱。

                   
                  HMDS涂膠系統
                  二、HMDS預處理系統的優點:
                    2.1預處理性能更 好,由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤,再接著進行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有著更 好的處理效果等。
                     2.2處理更加均勻。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態涂布不可比擬更 好的均勻性。
                     2.3效率高。液態涂布是單片操作,而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。
                     2.4更加節省藥液。實踐證明,用液態HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統處理4盒晶片所用藥液還多;   
                     2.5更加環保和安全,HMDS是有毒化學藥品,人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機,所以也不會對環境造成污染。
                  HMDS涂膠系統
                  三. 整機尺寸、真空腔體尺寸:      
                    3.1 內膽尺寸:450*450*450mm;300*300*300mm;                                           610*610*650mm(W*D*H)
                    3.2真空度:150Pa;采用真空泵 
                    3.3 加熱方式:腔體下部及兩側加溫。加熱器為內置加熱板
                    3.4 溫度:RT+10℃~ 200℃;微電腦溫度控制器,控溫精確可靠。      
                    3.5 控溫精度:±2%℃(200℃內);
                    3.6 可放LED芯片2寸片100片左右;
                    3.7開箱溫度可以由user自行設定來降低process時間(正常工藝在50分鐘-90分鐘(按產品所需而定烘烤時間),為正常工作周期不含降溫時間(因降溫時間為常規降溫));
                    3.8  整個系統采用優 質材料制造,無發塵材料,適用100 級光刻間凈化環境。鋼化、鋼化玻璃門觀察工作室內物體,一目了然。箱門閉合松緊能調節,整體成型的硅橡膠門封圈,確保箱內高真空度。工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成,確保產品經久耐用。

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